該技術采用磁控濺射在不銹鋼基底上堆積鈦膜，并調(diào)查其相關性質(zhì)及影響因數(shù)，確定適宜的條件參數(shù)，制得膜厚、附著力等功能都較好的薄膜，進而爲工業(yè)化大規(guī)模采用濺射制備薄膜資料提供參考數(shù)據(jù)。

這項技術曾經(jīng)完成了等離子體濺射爐的研制任務，設計并取得了鋼材外表鍍鈦膜的等離子體濺射爐；完成鋼材外表等離子體濺射堆積鍍鈦膜的工藝條件探索，經(jīng)過探索，取得了設備的根本功能。研討了不同工藝參數(shù)對鋼鈦復合資料功能的影響；研討了較優(yōu)工藝參數(shù)對鋼鈦復合資料功能的影響；在固定其他工藝條件的前提下，對在鋼材外表等離子體鍍鈦膜的各種工藝條件停止了優(yōu)選實驗，取得了各工藝的較優(yōu)值，這些工藝條件辨別是：氬氣流量爲20ml/min、功率112W、真空度1.0Pa、鍍膜工夫100min、偏壓150V、靶距35mm。在上述已優(yōu)化出來的較優(yōu)工藝條件下停止綜合實驗，研討在較優(yōu)工藝條件下制成商品外表及斷面形貌，并對其耐腐蝕功能和鈦膜在基材上的附著力停止表征，后果發(fā)現(xiàn)制成的鈦膜鍍層的耐腐蝕性、外表裝飾性和附著力均到達預定目的，可以滿足工程需求。

目前國內(nèi)外上雖然有采用等離子體制備鈦合金薄膜的研討報道，但未見在真空條件上等離子體濺射鍍鈦制備鈦膜不銹鋼復合資料的研討報道，因而該辦法屬首創(chuàng)。由于鍍鈦不銹鋼復合資料在科技、國防和社會生活等方面的宏大使用前景，以及該項目效果與傳統(tǒng)消費方式相比所具有的宏大劣勢，使該項目具有普遍的使用前景。該技術屬于國內(nèi)外先進程度，限國內(nèi)外轉(zhuǎn)讓。